一、上海召业申凯电子材料有限公司怎么样？

上海召业申凯电子材料有限公司是在上海市嘉定区注册成立的有限责任公司(外国法人独资)，注册地址位于上海市嘉定区菊园新区菊城路33号2幢B区。

上海召业申凯电子材料有限公司的统一社会信用代码/注册号是，企业法人吴政穆，目前企业处于开业状态。

上海召业申凯电子材料有限公司的经营范围是：生产钽酸锂及其它相关产品，销售本公司自产产品。【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】。本省范围内，当前企业的注册资本属于一般。

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二、磁控溅镀对控制表面粗化的方法

控制粗糙度可以降低生长速度，用低功率或者增加靶与基片的距离，或者增大溅射气压，要把背底真空度抽的高一点，背底真空越小膜的质量越好

三、什么是“真空溅镀”？它与“真空蒸镀”有什么区别?

真空溅镀,是真空溅射镀膜的简称,是一种物理镀膜的方法.

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的被称为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。

对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

四、溅镀的步骤

溅镀过程

a，真空至10E-4mbar范围

b，注入氩气至10E-3 bar范围

c，施以直流电压

d，氩气在电场中被离子化，产生氩离子及自由电子

e，因电场关系，氩离子向阴极（靶材）加速，自由电子向阳极加速

f，被加速的氩离子和自由离子撞向其他氩原子，因动能转移，使更多的氩原子被离子化

g，大量氩离子撞击靶材表面，氩离子的动能转移至靶材原子，一部分转化为靶材原子的动能，一部分转化为热，因此靶材必须用冷却水冷却

h，当靶材原子获得足够的动能，就会脱离靶材表面并自由在溅镀腔体内移动，最后覆盖于基板表面

i，靶材下的磁场会提高等离子体的一致性，改变溅镀层的厚度均匀性

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